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短弧放电光源,用于半导体设备中提供高亮度、高能量密度的紫外及可见光辐射,广泛应用于光刻曝光、光学检测及材料光照工艺。
氙短弧灯(Xenon Short-Arc Lamp)或汞氙短弧灯(Hg-Xe Lamp)
中间球形放电腔(短弧结构)
两端粗电极
石英灯体
单端供电结构
外接编织引线(高电流接地/回路线)
内部电极间距极短(短弧灯典型结构)
应用:
Short Arc Lamp
Xe Arc Lamp
Hg-Xe Lamp
UV Arc Source
曝光光源灯
⭐ 主要用途:紫外光源 / 高强度宽谱光源
1️⃣ 光刻设备光源(传统或特殊工艺)
作用:
提供高亮度UV光
曝光光刻胶
特点:
高亮度
高能量密度
光谱连续或带谱线
2️⃣ 检测 / 光学量测设备
用于:
缺陷检测
表面检测
光学检测系统
显微检测光源
优点:
光强稳定
光谱宽
色温高
3️⃣ 材料光照工艺
UV固化
表面处理
光催化测试
材料老化测试
核心优势
特性 工程意义
极高亮度 可聚焦到微米级
光谱宽 覆盖UV–可见–IR
光斑小 适合精密光学系统
功率密度高 提供高能量曝光
适用于PCB/FPD/半导体行业曝光机设备。
国内首个国产化汞灯技术团队,可以为客户提供性价比最高的产品和服务。